芯片一直是制约中国先进制造业发展的重要瓶颈，因为中国无法自己生产高端芯片，而中国也无法自己生产高端芯片，因为我们没有高端光刻机。

2019年前，我国自主研发的90纳米光刻机才得以实现并批量生产，45纳米以上光刻机仍处于实验或研究阶段。

然而，最近来自中国的好消息是，上海微电子自主研发的28纳米浸没式光刻机取得了突破，预计将在2021年至2022年间交付首台机器。

我国的光刻技术已经从90纳米直接发展到45纳米，并直接跃升到28纳米。这一进展确实非常明显。

然而，在28纳米光刻机和世界顶尖的7纳米紫外光刻机之间仍有很大差距。基于7纳米紫外光刻机，TSMC目前已开始批量生产5纳米芯片。因此，即使中国开发了28纳米光刻机，在短期内解决7纳米或更多芯片的问题仍然非常困难。未来，中国仍将严重依赖7纳米或更多芯片的进口。

不过，我个人认为，我国开发的28纳米光刻机将对电子产品市场产生一定的影响，但影响不会太大。

作为世界上芯片消费量最大的国家之一，中国每年进口大量芯片。例如，2019年，我们进口了超过2万亿元的芯片，包括高端芯片和一些低端芯片。

如果中国的28纳米光刻机将来正式投入生产，中国的芯片生产能力将大大提高，不仅可以独立生产28纳米芯片，还可以独立生产技术含量较高的芯片。

虽然28纳米光刻机与目前的ASML7纳米光刻机技术还有很大差距，但通过技术改进和多次曝光，28纳米光刻机可以生产出技术高于28纳米的芯片。随着技术的进步，28纳米光刻机可以用来生产14纳米、12纳米甚至7纳米的芯片。

如果28纳米光刻机将来能生产10纳米以上的高端芯片，那么我国就可以减少对芯片进口的依赖，从而使我国生产的一些电子产品的成本有可能下降。

毕竟，对于各种电子产品来说，芯片的成本相对较高。如果芯片的生产成本降低，电子产品的整体价格也会相应下降，这无疑会对整个电子产品产生一定的影响。

然而，目前全球电子产品正朝着越来越高端的方向发展，用于电子产品的芯片技术也越来越高。尤其是对于手机这种变化相对较快的电子产品来说，中国生产的28纳米光刻机影响不大。

因为对于主要的电子产品制造商来说，他们必须使用最先进的芯片技术来保持市场竞争力，特别是对于手机制造商来说，为了保持市场竞争力，他们每年都会推出新的旗舰机型，而这些旗舰机型都配备了目前最先进的芯片技术。

目前，世界已经实现了5纳米芯片的大规模生产，未来几年有可能生产3纳米甚至2纳米芯片。

在这种背景下，尽管我国已经生产了28纳米光刻机，但与国际顶级芯片水平仍有很大差距，因此我国还有很长的路要走。

然而，我国可以从90纳米光刻技术直接突破到28纳米，这是一个非常明显的进步。我相信，根据目前对芯片的投资和我国主要企业对芯片的重视程度，我国的光刻研究今后一定会取得更大的进展。